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반도체pan do che 공정에서는kong jeong e seo neun 감광액을kam gwang ae geul 얇게yal kke 바른다pa reun da.
半導体工程では感光液を薄く塗る。
光を受けた部分の性質が変わり、回路や画像の形を作る液体
빛을pi cheul 받으면pa deu myeon 성질이seong ji ri 변하여pyeon ha yeo 반도체나pan do che na 인쇄판in swae pan 등에teung e 원하는won ha neun 무늬를mu ni reul 만드는man deu neun 데te 쓰이는sseu i neun 액체aek che
감광액は、感光する性質を表す「感光」と、液体を表す「液」から成る漢字語
포토레지스트를po to re ji seu teu reul 기판에 균일하게kyu nil ha ge 발랐다.
基板にフォトレジストを均一に塗った。
光で性質を変え、基板上で加工する場所を選び出す薄い膜
빛을pi cheul 받은pa deun 부분의pu bu nui 성질이seong ji ri 달라지는tal la ji neun 특성을teuk sseong eul 이용하여i yong ha yeo 기판에ki pa ne 회로hoe ro 무늬를mu ni reul 옮길om gil 때ttae 쓰는sseu neun 감광성kam gwang seong 물질mul jjil
포토레지스트は、英語 photoresist の借用語で、photo（光）と resist（耐える・防ぐ）から、光で加工部分を選び出す材料を表す語
